為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數是非常重要的，無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂（PI）烤箱腔內的氣體保持相當干凈（100級），良好的溫度均勻性。通過(guò)氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優(yōu)異工藝結果。
無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂（PI）烤箱概述
為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數是非常重要的，無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂（PI）烤箱腔內的氣體保持相當干凈（100級），良好的溫度均勻性。通過(guò)氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優(yōu)異工藝結果。
應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料、導線(xiàn)、光纖和石英毛細管表面的保護，以及半導體器件的鈍化保護、無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂（PI）烤箱技術(shù)參數
材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼，內箱采用SUS304不銹鋼
溫度范圍：RT+10-200/450℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：＜±1℃
溫度均勻度：≤±1/2%
潔凈度：class 100，設備采用無(wú)塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境
升溫時(shí)間：根據要求定做
降溫時(shí)間：根據要求定做
高溫狀態(tài)氧含量：≤ 20ppm +氣源氧含量
低溫狀態(tài)氧含量：≤ 50ppm +氣源氧含量
數據記錄：溫度和氧含量記錄儀
無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂（PI）烤箱性能特點(diǎn)
無(wú)塵烤箱是對流烤箱。氣體通過(guò)耐熱HEPA過(guò)濾器并由特殊的護套加熱器加熱，然后通過(guò)沖壓后側引入爐腔。氣體以層流方式通過(guò)腔室，并被沖壓到前端排出?？鞠涞墓娘L(fēng)機吸入來(lái)自門(mén)的氣體，并將其與來(lái)自外部的新鮮氣體混合。氣體混合物通過(guò)熱交換器以使其冷卻，部分氣體被排出。剩余的氣體通過(guò)HEPA過(guò)濾器，然后再次加熱，依次循環(huán)。
