HMDS真空烘箱，HMDS鍍膜烘箱通過(guò)對烘箱預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS真空烘箱，HMDS鍍膜烘箱的用途：
HMDS真空烘箱，HMDS鍍膜烘箱通過(guò)對烘箱預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
的特點(diǎn)：
1、安全性高、更加環(huán)保，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì )出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激、呼吸道等，由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì )有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機，所以也不會(huì )對環(huán)境造成污染。
2、hmds熏蒸機效率高，液態(tài)涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達8盒（4寸）的晶片，甚至更多
3、預處理性能好，由于是在經(jīng)過(guò)數次的氮氣置換再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì )有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-160℃的去水烘烤，再接著(zhù)進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會(huì )大大降低，所以有著(zhù)更好的處理效果。
4、均勻性好，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
5、hmds烘箱更加智能化，智能型的程式設定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。當HMDS液位過(guò)低時(shí)發(fā)出報警提示。
的技術(shù)規格：
1.設備名稱(chēng) |
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2、設備型號 | JS-HMDS90 |
3、設備主要技術(shù)參數 | |
3.1 工作室尺寸 | 450×450×450mm（可定做） |
3.2 產(chǎn)品架 | 2層 |
3.3 溫度范圍 | RT+10-250℃ |
3.4 溫度分辨率 | 0.1℃ |
3.5 溫度波動(dòng)度 | ＜±1℃ |
3.6 真空度 | ≤133pa |
3.7 潔凈度 | class 100，設備采用無(wú)塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境 |
3.8電源及總功率 | AC 220V±10% 50HZ 總功率 約2.5KW |
3.9 控制儀表 | 人機界面 |
3.10顯示分辨率 | 時(shí)間：0.1min |
3.11真空泵 | 油泵或干泵
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