大型HMDS真空烘箱,4門(mén)HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關(guān)鍵設備,主要用于基片表面預處理,通過(guò)六甲基二硅氮烷(HMDS)涂布增強光刻膠與基片的黏附性。
硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備通過(guò)表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過(guò)程中實(shí)現結構較好的轉移,復制.
抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過(guò)精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時(shí)長(cháng)及保持時(shí)間等參數,使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護層,,將親水基片轉化為疏水性。該過(guò)程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時(shí)提升膠層與基片的黏附強度?。
抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統 硅烷偶聯(lián)劑(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等)作為一類(lèi)重要的有機硅化合物,在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著(zhù)廣泛應用。
表面疏水性處理設備 陶瓷玻璃疏水處理機通過(guò)氣相涂布硅烷偶聯(lián)劑HMDS實(shí)現陶瓷表面疏水性能的提高,陶瓷表面接觸角為118?135度,且疏水材料與陶瓷基體的的附著(zhù)性能好。
納米陶瓷材料表面疏水HMDS處理系統生產(chǎn)工藝周期短,提高生產(chǎn)效率; 修飾液用量極少,節約成本90%; 閉環(huán)的工藝過(guò)程,安全系數高。