配有HMDS氣體檢測的HMDS烘箱
HMDS烘箱用于光刻前基板的疏水性處理工藝。它是將HMDS(六甲基二硅胺烷)通過(guò)氣相沉積的方法均勻的涂布在基底表面,使基底表面接觸角增大,基底表面由親水性變?yōu)槭杷?,就?huì )增強光刻膠的粘附性。避免了顯影后光刻膠漂膠、裂膠的不良現象。
但是HMDS具有一定的傷害性,大量吸入會(huì )刺激與灼傷鼻子與呼吸道器官系統,會(huì )產(chǎn)生頭痛、呼吸困難、呼吸急銷(xiāo)遲促、咳嗽以及眼睛紅腫并感到眼睛來(lái)自刺痛與灼傷。所以,在使用過(guò)程中的安全性不容忽視。
我司HMDS烘箱 不同的設計原理,使得整個(gè)工藝過(guò)程都在密閉的回路中完成,并有效排出殘余氣體,同時(shí)具有HMDS實(shí)時(shí)監測功能,具有泄露報J提示音。
溫度范圍:RT+10-200℃
真空度:≤1torr
操作方式:一鍵運行
真空泵:無(wú)油渦旋真空泵
容積:40L/90L/210L,可定制
產(chǎn)品兼容性:2~12寸晶圓及碎片、方片等
適用行業(yè):MEMS、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。