快速熱處理退火爐，半導體RTP快速退火 爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火，硅化物形成，歐姆接觸制備以及快速氧化，快速氮化等方面。該設備具有很好的長(cháng)時(shí)間工作穩定性以及快速升降溫，慢速升降溫功能