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抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統

簡(jiǎn)要描述:

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統

硅烷偶聯(lián)劑(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等)作為一類(lèi)重要的有機硅化合物,在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著(zhù)廣泛應用。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統

    硅烷偶聯(lián)劑(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等)作為一類(lèi)重要的有機硅化合物,在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著(zhù)廣泛應用。

應用領(lǐng)域: 半導體:晶圓光刻前疏水性處理、掩膜板疏水性處理、LED芯片工藝、藍寶石、貴金屬、硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導體材料等。平板顯示器:用于大規模生產(chǎn)高性能顯示面板。 太陽(yáng)能電池:提高薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)效率和性能。航空航天新材料:陶瓷纖維板材疏水性處理。手機平板:抗指紋、防水處理等。納米壓?。杭{米壓印脫模階段。


抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統性能

內部容積: 20-5000L

材質(zhì): 外箱冷軋板烤漆或優(yōu)質(zhì)SUS#304不銹鋼,內腔采用316L不銹鋼

控制方式:人機界面+PLC

溫度范圍 :RT-450℃

波動(dòng)度 :≤±0.5

真空度: ≤1torr

電源及總功率 :220V/380V   

真空泵 :無(wú)油泵

  

半導體設備廠(chǎng)商上海雋思儀器,硅烷氣相沉積設備、精密熱板、HMDS預處理系統烘箱、智能型HMDS真空預處理系統烘箱、MSD超低濕烘箱、無(wú)塵烘箱、潔凈烘箱,氮氣烘箱、無(wú)氧烘箱、無(wú)塵無(wú)氧烘箱、真空烘箱、真空儲存柜、超低溫試驗箱、超低濕試驗箱等環(huán)境可靠性設備。

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