HMDS增粘裝置，涂敷HMDS增粘劑的裝置通過(guò)對箱體內預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，增加了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS增粘裝置，涂敷HMDS增粘劑的裝置用途：
HMDS增粘裝置通過(guò)對箱體內預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，增加了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS增粘裝置，涂敷HMDS增粘劑的裝置技術(shù)性能：
尺寸（深*寬*高）：
內腔尺寸：300×300×300（mm）
外形尺寸：500×680×780（mm）
材質(zhì) ：外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼，內箱采用316L醫用級不銹鋼
溫度使用范圍： 80-200℃
溫度分辨率： 0.1℃
溫度波動(dòng)度： ≤±0.5
真空度： ≤100pa（1torr）
潔凈度: 設備采用無(wú)塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境
電源及總功率: AC 220V±10% / 50HZ ， 總功率約2.5KW
控制儀表: 人機界面
擱板層數: 一層
HMDS控制： 可控制HMDS藥液添加量
真空泵： 無(wú)油渦旋真空泵
HMDS增粘裝置使用環(huán)境
安裝設備使用空開(kāi)電源，220V、3.0KW ；
工業(yè)用氮氣純度99.999%，壓力0.2MP，?8mm軟管快插接口；
尾氣排放KF25閥接口；
周?chē)鸁o(wú)強烈電磁場(chǎng)影響，周?chē)鸁o(wú)強烈震動(dòng)；
潔凈車(chē)間，周?chē)鸁o(wú)高濃度粉塵及腐蝕性物質(zhì)；
無(wú)陽(yáng)光直接照射或其它熱源直接輻射；
周?chē)鸁o(wú)強烈氣流，當周?chē)諝庑枰獜娭屏鲃?dòng)時(shí)，氣流不應在直接吹到箱體上；
設備應放在堅固平穩的平面上，并使其保持水平狀態(tài)；
環(huán)境溫、濕度5℃～＋35℃，相對濕度：≤85%；
