HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱

HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱用途

  二合一真空腔體帶來(lái)更低的成本、更高的效率和更可靠的工藝。先進(jìn)的溫控、工藝時(shí)間和腔體尺寸控制系統讓您用更少的化學(xué)品，實(shí)現對沉積過(guò)程環(huán)境的掌控。

   智能型HMDS真空系統可快速、均勻、經(jīng)濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進(jìn)行底漆處理，從而改善光刻膠的附著(zhù)力。

有效的光刻膠處理是后續所有工藝步驟的基礎，只有被處理的表面才能準確復制，避免蝕刻不足或邊緣粗糙。JS-HMDS系列真空系統可脫水晶圓，使HMDS 層附著(zhù)力更強，即使暴露于大氣濕氣數周也能保持穩定。

智能型HMDS真空系統 HMDS預處理系統特點(diǎn)

通過(guò)使用六甲基二硅氮烷（HMDS）對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、且成本效益高的硅烷化處理，有效增強了與光刻膠的粘合性。

真空鍍膜技術(shù)能脫水晶圓，確保了更強的粘接強度。

即便長(cháng)時(shí)間暴露于潮濕的空氣中，HMDS層也能維持其穩定性。

我們的先進(jìn)控制系統支持用戶(hù)根據需要選擇溫度、處理時(shí)長(cháng)及腔室尺寸。

此外，我們的技術(shù)還能降低化學(xué)物品的使用量和成本，實(shí)現經(jīng)濟效益。

通過(guò)工藝處理，達到圖像反轉效果，解決了圖像反轉光刻膠的復雜性。

HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱參數

設備型號：JS-HMDS90AI                       

工作室尺寸（mm）： 450×450×450，650*650*650,可自定
材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或不銹鋼，內箱采用316L醫用級不銹鋼
溫度范圍：RT+10-200℃ 
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：≤±0.5
真空度：1torr
潔凈度：設備采用無(wú)塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境
控制儀表：人機界面
擱板層數：2層
HMDS控制:可控制HMDS藥夜添加量
真空泵：旋片式油泵或干泵
保護裝置:HMDS藥液泄漏報警裝置，HMDS自動(dòng)添加，超溫保護，漏電保護，過(guò)熱保護