前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱，用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強制送風(fēng)循環(huán)方式。
前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱
用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強制送風(fēng)循環(huán)方式。雙風(fēng)道循環(huán)結構，溫度場(chǎng)分布均勻，智能P.I.D溫控系統，得到zui高溫度控制精度。無(wú)塵工業(yè)烤箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱特點(diǎn)
1、內箱全部滿(mǎn)焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器，防機臺本身所產(chǎn)生微塵；
2、采用進(jìn)口SUS304#鏡面不銹鋼，并經(jīng)堿性蘇打水清潔，去油污避免烘烤時(shí)產(chǎn)生 PARTICLE；
3、平面水平由后向前送風(fēng)后經(jīng)進(jìn)口過(guò)濾裝置往前門(mén)(特殊風(fēng)道設計)方向送風(fēng)，過(guò)濾效率99.99%，Class 100,排氣口φ50mm
技術(shù)參數
1、潔凈烘箱滿(mǎn)足ULSI工藝
2、潔凈烘箱工作尺寸(mm):W600×H600×D500（可尺寸）
3、溫度范圍：60℃～300℃
4、潔凈度：100/1000/10000級（可選擇）
5、溫度均勻性: ±1.5%（空載）
6、波 動(dòng) 度：±0.5℃
7、電 源：380V 50Hz 7.5KW；
8、箱體材料：外箱采用高級冷軋板板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆，可防止微塵(PARTICLE),保溫材料：超細玻璃棉；
9、 空氣循環(huán)裝置：大容量軸流電機；
10、加熱方式：不銹鋼電加熱器；
11、溫度測量傳感器：Pt100 鉑電阻；
12、控制儀表：進(jìn)口數顯溫度控制器，PID調節，控制精度0.1℃；
13、超溫保護儀表：獨立于工作室主控制的超溫保護系統，保證試驗品的安全；
14、控制系統：主要電器件均采用正泰、歐姆龍等元器件；
15、排 氣 口：ф50；
16、隔 板：2層，不銹鋼方通，承重約30KG。
