半導體烤箱，wafer烤箱于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
半導體烤箱，wafer烤箱用途:
半導體烤箱，wafer烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
特點(diǎn)：
1.烤箱具有升溫快，溫度過(guò)沖小，節能等優(yōu)點(diǎn)；
2.全周氬焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器，防機臺本身所產(chǎn)生微塵；
3.采用環(huán)抱式熱風(fēng)循環(huán)系統，風(fēng)源由循環(huán)馬達運轉帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，省電節能溫度均勻性好；
4.強制送風(fēng)循環(huán)方式。雙風(fēng)道循環(huán)結構，溫度場(chǎng)分布均勻，智能P.I.D溫控系統，得到精密溫度控制精度。
產(chǎn)品技術(shù)參數：
溫度范圍：RT+10～250℃；
溫度均勻度：±2℃;
溫度波動(dòng)度：±0.5℃
溫控精度：±0.1℃;
工作室尺寸：W600×D550×H600（mm）
電源：220v , 50Hz，3.0KW
網(wǎng)板：2塊（高度可調節)
