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無(wú)氧化恒溫熱板,氮氣保護加熱臺

無(wú)氧化恒溫熱板,氮氣保護加熱臺

簡(jiǎn)要描述:

無(wú)氧化恒溫熱板,氮氣保護加熱臺用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、硅片高溫退火,電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,形成高溫、低氧(無(wú)氧),特別適合半導體制造、玻璃退火、IC、石英玻璃、醫療衛生、柔性穿戴技術(shù)研發(fā)、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求。

無(wú)氧化恒溫熱板,氮氣保護加熱臺技術(shù)性能:

加熱面積尺寸:160mmX160mm,220mmX220mm  可定制

控溫范圍:室溫--200/300/400/600

溫度控制器:高精度數顯溫控器,PID控溫可修正

控溫精度:±1

溫度均勻性:<±1、2、1%

電源輸入: AC220V10A

功率: 600-1500W

氣氛:空氣或惰性氣體

溫度分辨率:0.1℃   

加熱面板材料:耐高溫不銹鋼

氮氣控制:可調式流量計控制,節省氮氣消耗量

氮氣保護加熱臺特點(diǎn):

可用于流動(dòng)氣氛高溫加熱,即在加熱的過(guò)程中,為受熱樣品提供一個(gè)可調控的流動(dòng)氣體的保護氛圍。

基于可調控的流動(dòng)氣體的功能,對于空氣敏感的樣品的加熱,本品不僅可以保護樣品 不易氧化,還可以保護濕度敏感的樣品不易吸潮。

基于可調控的流動(dòng)氣體的功能,對于半導體電極膜層的高溫燒結,本品可以使電極膜層中的高分子物質(zhì)在高溫下形成碳化后隨著(zhù)氣流迅速逃離膜層表面,不會(huì )堵塞納米孔。

無(wú)氧化恒溫熱板,氮氣保護加熱臺用途:

    無(wú)氧化恒溫熱板應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、硅片高溫退火,電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,形成高溫、低氧(無(wú)氧),特別適合半導體制造、玻璃退火、IC、石英玻璃、醫療衛生、柔性穿戴技術(shù)研發(fā)、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求,廣泛應用于電子產(chǎn)品、五金制品、醫療衛生、儀器儀表、工廠(chǎng)、高等院校、科研等行業(yè)。


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