抗粘劑涂膠機,抗粘 劑真空預處理系統用于半導體,光電、電子行業(yè)硅片或石英硬模板等材料,如制備各種微納電子器件、光學(xué)器件、光電器件、存儲器、微流體通道、生物芯片等微納結構制備方面的應用。
抗粘劑涂膠機,抗粘 劑真空預處理系統重要性
在納米壓印工藝中為防止在退模過(guò)程中模板與壓印膠相互粘連破壞結構,我們需要給模板制備抗粘層,制備抗粘層的方法以及模板的結構也會(huì )影響到終的抗粘效果。當模板結構在100nm以下時(shí),在液相中制備的抗粘層就不能*起到抗粘的作用。這是因為在模板的角落中會(huì )滯留一部分空氣而導致抗粘材料無(wú)法到達這些位置然而,若采用氣相的方法則不存在這樣的問(wèn)題。
抗粘劑涂膠機,抗粘 劑真空預處理系統參數
工作室尺寸 350×350×350,450*450*450(mm),可定制
材質(zhì) 外箱優(yōu)質(zhì)SUS#304不銹鋼,內腔采用316L醫用不銹鋼
溫度范圍 可調節
溫度分辨率 0.1℃
溫度波動(dòng)度 ≤±0.5
潔凈度 設備采用無(wú)塵材料,適用100光刻間凈化環(huán)境
電源及總功率 AC 220V±10% / 50HZ 總功率約3.5KW
控制儀表 人機界面+PLC
擱板層數 1-4層
抗粘劑添加量可調
真空泵 無(wú)油泵
抗粘劑涂膠機,抗粘劑真空預處理使用條件
環(huán)境溫、濕度5℃~+35℃,相對濕度:≤85%;
周?chē)鸁o(wú)強烈震動(dòng);
周?chē)鸁o(wú)高濃度粉塵及腐蝕性物質(zhì);
周?chē)鸁o(wú)強烈電磁場(chǎng)影響;
設備應放在堅固平穩的平面上,并使其保持水平狀態(tài);
不小于0.3MPa高純氮氣;
安裝設備使用空開(kāi)電源 ;
有機尾氣排放管道。