墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮氣烘箱是半導體行業(yè)，芯片加工工藝流程中打墨點(diǎn)工藝后，將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干專(zhuān)用設備。
墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮氣烘箱的來(lái)源
隨著(zhù)半導體技術(shù)的快速發(fā)展，芯片的集成度也隨之不斷提高，使得芯片的制作工藝日趨復雜。為了保證較高的成品率，對整個(gè)芯片加工工藝流程和裝置設備的要求就會(huì )更加嚴格。在曝光過(guò)程中，由于曝光系統一次曝光的面積大小是有限的，因此在曝光時(shí)會(huì )產(chǎn)生非全部曝光的芯片。工藝過(guò)程中，為了監控過(guò)程工藝質(zhì)量，需要對這樣的非完整芯片進(jìn)行標識。
傳統的標識方法主要采用物理墨點(diǎn)的形式對非完整芯片進(jìn)行標識，主要步驟為：在芯片完成過(guò)程工藝及測試后，將硅片放入物理墨點(diǎn)的設備，輸入專(zhuān)用程序，對第一顆非完整芯粒進(jìn)行打墨點(diǎn)工藝，待打點(diǎn)完成后，將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干操作。
墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮氣烘箱性能要求：
溫度范圍：RT+10～200℃；
溫度偏差：≤±2.0℃；
升溫速度：≤5℃/min；
內部尺寸：
450×450×450mm（4）
500×500×550mm（6）
600×600×700mm（8）
可定制
電源：AC380V 50HZ
輸入氣體：N2
氮氣烘箱結構：
箱體材料：外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼或冷軋板噴塑；
內室材料：采用SUS304不銹鋼；
保溫材料：高性能環(huán)保陶瓷纖維；
置物架：2層；
空氣循環(huán)：強制循環(huán)；
氮氣烘箱適用于半導體、電子、液晶顯示、LCD、PCB,CMOS、IC、LCP、PI、BCB、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。潔凈烘箱也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗。
