氮氣潔凈烘箱 光刻膠無(wú)塵烘箱 百級烘箱 適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研.
氮氣潔凈烘箱 光刻膠無(wú)塵烘箱 百級烘箱工藝
不同的勻膠轉速,對應不同的光刻膠厚度,厚度越大,由于曝光的穿透深度以及光的衍射,光刻的分辨率就會(huì )越低,并且會(huì )在光刻膠側壁形成明顯的梯形。厚度太薄的話(huà),在刻蝕的時(shí)候會(huì )被刻穿,要根據需要刻蝕的深度選擇合適的光刻膠厚度,從而選擇合適的轉速
在勻膠結束后,使用溫度95°烘5min來(lái)提高光刻膠的致密性以及與晶圓的粘附性。
氮氣潔凈烘箱 光刻膠無(wú)塵烘箱 百級烘箱指標
潔凈度:Class100、1000
溫度:RT+15~200/300/400℃;
氣體:N2
計時(shí)功能:可選
設備材質(zhì):內部SUS304不銹鋼
工作尺寸(mm):
450×450×500
500×500×550
600×700×800
(可定制)
網(wǎng)板:活動(dòng)式2-5塊
運行模式:定值或程式
操作界面:按鍵或彩色觸摸屏
氮氣潔凈烘箱 光刻膠無(wú)塵烘箱用途
適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研.
驅趕膠中的溶劑
提高膠對襯底的黏附性
提高膠的抗腐蝕能力
優(yōu)化膠的光學(xué)吸收特性
提高涂膠的均勻性
提高條寬控制能力
通過(guò)前烘,基片上的光刻膠基本固化。