HMDS專(zhuān)用烘箱，HMDS真空涂膠系統適用行業(yè)：MEMS、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。

桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱采用HMDS涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強光刻膠和晶圓的粘附力。

HMDS增粘劑烘箱，HMDS涂膠機即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機臺。

碳化硅HMDS烘箱，SiC襯底HMDS烤箱將HMDS氣相沉積至半導體制造中氮化鎵（GaN）和、碳化硅（SiC）、硅片、砷化鎵等材料表面后，經(jīng)系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用

HMDS烘箱真空泵，IDP10無(wú)油泵泵具有密封設計，電機和軸承與真空環(huán)路全隔離，延長(cháng)了軸承的使用壽命，并提供潔凈、無(wú)油的真空條件。IDP 泵采用單面渦旋設計，可通過(guò)簡(jiǎn)單的工具在 15 分鐘內完成維護操作?？蛇x的集成式隔離閥防止意外污染，并且不會(huì )額外增加泵的高度。

OAP烘箱，OAP處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面，變?yōu)槭杷?，從而達到增加光刻膠粘附性的作用。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中，通常會(huì )用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類(lèi)襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì )導致后續的光刻顯影環(huán)節出現“裂紋”甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。