硅片清洗設備，硅片全自動(dòng)清洗機應用于集成電路，MEMS器件，微波器件，先進(jìn)封裝等工藝。去膠清洗設備，顯影清洗設備，酸堿刻蝕機。也可用于零部件清洗，石英管道清洗，外延片清洗（砷化鎵，氮化鎵，碳化硅，鈮酸鋰等

刻蝕機，半導體刻蝕臺用于半導體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的設備。

馬弗爐，1200度高溫爐應用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質(zhì)量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤(pán)預燒結等。根據加熱區大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。

高溫厭氧烘箱，厭氧固化烤箱將封閉腔內持續加熱到預設溫度后，進(jìn)入保溫加熱控制狀態(tài)，電子元件在均勻的溫度下進(jìn)行固化，提高電子元件的質(zhì)量；也可滿(mǎn)足大容量烤箱的生產(chǎn)要求，提高了生產(chǎn)效率。

電子無(wú)塵烤箱，電子潔凈烘箱 晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅芯片。在硅芯片上可加工制作成各種電路組件結構，而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。一般是芯片電路設計-晶圓的制造-晶圓的測試-晶圓的切割研磨-芯片的封裝-成品芯片的測試。在整個(gè)工藝中晶圓烘烤工藝也很重要，且需要多次烘烤。

工業(yè)烘箱，工業(yè)無(wú)塵烘箱用于半導體制造中預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、IC封裝、治具烘烤、光刻膠固化等；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。

厭氧烘箱，厭氧固化烘箱主要應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求。