六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中，通常會(huì )用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類(lèi)襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì )導致后續的光刻顯影環(huán)節出現“裂紋”甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在箱內先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤，再進(jìn)行HMDS處理，不需要從箱內傳出，而接觸到空氣，晶片吸收水分子的機會(huì )大大降低，所以有更好的處理效果。
智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。
智能型HMDS系統真空泵，HMDS涂膠機干泵密封設計（電機和所有軸承與真空環(huán)路*隔開(kāi)）延長(cháng)了軸承的使用壽命， 還可提供潔凈、無(wú)油的真空條件?？蛇x的集成入口保護閥內置于泵模塊中， 可根據需要使用，不會(huì )額外增加泵的高度。
HMDS增粘裝置，涂敷HMDS增粘劑的裝置通過(guò)對箱體內預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，增加了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
