無(wú)塵烤箱，高溫無(wú)塵無(wú)氧烤箱工作室為不銹鋼結構。適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè)。

潔凈烘箱，百級潔凈烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。

前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱，用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強制送風(fēng)循環(huán)方式。

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過(guò)濾器過(guò)濾，使烘箱工作室內處于無(wú)塵狀態(tài)。

半導體工藝潔凈烘箱，百級無(wú)塵烘箱具有*設計的強鼓風(fēng)循環(huán)系統確保了溫度的穩定性，高效循環(huán)過(guò)濾系統確保箱內的潔凈度,控溫裝置采用 PID 數顯控溫（可選觸摸屏等），直觀(guān)醒目，設有可靠性保護裝置。

HMDS烘箱，半導體工藝HMDS設備有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業(yè)。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。

RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）簡(jiǎn)介 快速熱處理設備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）具有快速升降溫、慢速升降溫、和長(cháng)工作時(shí)間穩定等特點(diǎn)。也可用于各種半導體材料的CVD工藝的熱處理。