前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱涂膠后，晶片須經(jīng)過(guò)一次烘烤，稱(chēng)之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時(shí)間越短或溫度越低會(huì )使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高。
晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱潔凈度100級的潔凈熱處理HEPA過(guò)濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現并保證箱內的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。Z小限度控制風(fēng)速距離。
無(wú)氧烘箱、防氧化烤箱無(wú)氧烘箱，在工作時(shí)，工作室內充滿(mǎn)了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。
無(wú)塵潔凈烤箱，精密潔凈烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)
光刻膠高溫固化烤箱，半導體高溫烤箱適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè)。應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，箱內空氣封閉自循環(huán)，經(jīng)耐高溫高效空氣過(guò)濾器（100級）反復過(guò)濾，使烘箱工作室內處于無(wú)塵狀態(tài)。無(wú)塵烤箱工作室為不銹鋼結構。
HMDS真空烤箱，全自動(dòng)HMDS預處理系統通過(guò)對烤箱預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
