曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

　　光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過(guò)再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱(chēng)為“曝光后烘烤”，簡(jiǎn)稱(chēng)后烘或堅膜，英文為Post Exposure Bake(PEB)。
 

　　曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過(guò)加熱的方式，使得光化學(xué)反應能夠充分完成。
 

　　對于酚醛樹(shù)脂體系的光刻膠，PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應。并且，PEB溫度不同時(shí)，感光劑的擴散距離不同，消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時(shí)，消除駐波效應明顯。
 

　　對于化學(xué)放大型光刻膠，在后烘過(guò)程中，光酸起到催化光刻膠樹(shù)脂的去保護反應(Deprotection Reaction)，又稱(chēng)為脫保護反應。

　　大量實(shí)驗表明，烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線(xiàn)寬均勻性的主要因素之一。在設置后烘工藝時(shí)， 對熱盤(pán)溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
 

　　烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能
 

　　智能型烤膠機
 

　　加熱尺寸：220*220mm(可定制),適用于Ø200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品；
 

　　溫度范圍：RT～300°C
 

　　溫度精度：0.1°C；
 

　　溫度均勻性：≤±0.5℃；
 

　　電動(dòng)頂針調節高度: 0～30mm；
 

　　加熱臺表面：耐腐蝕硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁制成；
 

　　控制器單元：7寸全彩觸摸屏，高級PLC控制，實(shí)現在特定時(shí)間內自動(dòng)升降，可以定時(shí)取片；
 

　　潔凈烘箱
 

　　無(wú)塵等級：Class100;
 

　　溫度范圍：RT～300/450℃；
 

　　溫度均勻度：200℃±3℃;
 

　　溫度波動(dòng)度：±0.5℃(空載)
 

　　工作尺寸(mm)：
 

　　450×450×450
 

　　500×500×500
 

　　600×700×800(可定制)
 

　　可擴展功能：
 

　　氧濃度檢測，無(wú)塵無(wú)氧烘箱
 

　　智能聯(lián)網(wǎng)功能，MES等工業(yè)自動(dòng)化軟件
 

　　掃碼槍?zhuān)瑨叽a溯源，一鍵讀取
 

　　自動(dòng)門(mén)控，上位機程控，機械手搬運產(chǎn)品